1、按照磁瓦指標(biāo)值指標(biāo)值、生產(chǎn)效率和準(zhǔn)確度等技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)挑選 了攝像機(jī)、鏡頭等硬件配置;根據(jù)照明實(shí)驗(yàn)挑選 并設(shè)計(jì)適用磁瓦的光源照明模塊中的光源和照明方法,在這個(gè)基礎(chǔ)上建立了用來磁瓦圖像收集的硬件系統(tǒng)。

2、對于生產(chǎn)過程中磁瓦內(nèi)表面上比較常見的4種瑕疵種類:裂痕(包括深裂痕和淺裂痕)、崩爛、欠磨、壓痕,運(yùn)用平行的光線入射到物品表面上時(shí)會(huì)出現(xiàn)鏡面反射和漫反射。反射光和散射光的強(qiáng)度關(guān)鍵在于物品表面上的粗糙度和瑕疵的狀況。

因?yàn)殍Υ玫某霈F(xiàn),磁瓦表面上的粗糙度和反射平面法線大方向?qū)a(chǎn)生變化,進(jìn)而造成反射光和散射光強(qiáng)度的改變,且由表面上瑕疵造成的光強(qiáng)改變將超過由表面粗糙度差異所引起的光強(qiáng)改變。因?yàn)榉瓷涔夂蜕⑸涔庵卸及ㄓ腥毕莸男畔凑辗瓷涔夂蜕⑸涔鈴?qiáng)度的改變判斷出瑕疵的改變。

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